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中沮化学气相沉积(MT-CVD)涂层技术是以含C/N的有机物乙两(CH3CN)为主要反应气体和TiCI,, H3,涂层N:在700-900℃下产生分解、化学反应.生成TiCN的一种新方法,可获得致密纤维状结晶形态的涂层,涂层厚度可达8^-105m,这种涂层结构具有很高的耐磨性、抗热振性及韧性,并可通过高沮化学气相沉积工艺技术在其表层沉积上A1=(3, TiN等杭高沮权化性能好、与被加工材料亲和力小、自润滑性能好的材料。MT-CVD涂层刀片适合于高速、高沮、大负荷、干式切削条件下使用,其寿命可比普通涂层刀片提高1倍左右。
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